鑄鋁硬質氧化

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鑄鋁硬質氧化

硬質氧化膜的生成原理，與普通硫酸陽極氧化相同，但為了獲得質量好的的膜層，需要采用攝氏0度左右的電解液、高電壓和大電流的方法，使膜的生成速度遠大于溶解速度，使膜層結構發(fā)生變化，構成了硬質氧化膜生長過程的新特點。硬質氧化膜也是雙層結構，其區(qū)別在于比普通氧化膜的阻擋層厚度大10倍，孔壁也如此，這是硬度高的基本原因之一。然而孔隙率比普通氧化膜少7～8倍。只有2%～6%，硬質膜基組雜亂無章互相干擾，出現(xiàn)一種特殊的棱柱狀。導致膜內應力大，甚至引起開裂，合金元素和電解分解產(chǎn)物在膜壁中的殘留。引起氧化膜的色澤深暗及合金成分不同的顏色不同。合金成分和雜質，對硬質氧化有較大的影響，它影響氧化膜的均勻性和完整性，鋁銅、鋁硅。鋁猛合金，作硬質氧化比較因難。

制作硬質氧化注意事項：

1.制品上所有棱角應倒成直徑不小于0.5mm的圓弧,不允許有銳角及毛刺以避免電流集中造成局部過熱、變脆、斷裂。

2.不要求厚膜部位用過氯乙烯膠等加以保護,螺紋孔,定位銷孔用塑料或膠皮堵塞。

3.制品經(jīng)硬質氧化后,尺寸增加約為膜厚的一半(單邊)所以對尺寸要求嚴格的制品,應根據(jù)膜厚確定其陽極氧化前的尺寸余量。

4.氧化膜與基體結合牢固，但膜層有脆性，并隨厚度增加和增大，所以不宜用于承受沖擊，彎曲或變形的零件。達到一定厚度的硬質膜會使鋁合金的疲勞強度有較大的降低，進行硬質氧化應慎重。

鑄鋁硬質氧化