陽(yáng)極鋁氧化結(jié)構(gòu)介紹：

陽(yáng)極鋁氧化的結(jié)構(gòu) 陽(yáng)極氧化膜由兩層組成, 外層稱為多孔層，較厚、疏松多孔、電阻低。 內(nèi)層稱為阻擋層(亦稱活性層)，較薄、致密、電阻高。 多孔的外層是在具有介電性質(zhì)的致密的內(nèi)層上成長(zhǎng)起來(lái)的。總體而言，陽(yáng)極氧化膜是六角柱體的列陣，每一個(gè)柱體都要一個(gè)充滿溶液的星型小孔，形似蜂窩狀結(jié)構(gòu)，孔壁的厚度孔隙直徑的兩倍。

(1) 阻擋層 阻擋層是由無(wú)水的AI2O3所組成, 薄而致密, 具有高的硬度和阻止電流通過(guò)的作用。

(2) 多孔的外層氧化膜主要是由非晶型的AI2O3及少量 的r-AI2O3.H2O還含有電解液的陰離子組成。

陽(yáng)極鋁氧化氧化膜的孔徑在100nm~200nm之間，氧化膜厚度10微米左右，孔隙率20%左右，孔距300~500nm之間。氧化膜的截面圖表明氧化膜孔基本上是管狀結(jié)構(gòu)，氧化膜發(fā)生溶膜反應(yīng)基本上是在孔的底部發(fā)生的。而一般的硫酸直流陽(yáng)極氧化膜的孔徑是20nm左右，如果是12微米的氧化膜，那是多深的細(xì)管狀結(jié)構(gòu)啊！假設(shè)這是一個(gè)直徑1m的井，那么它的井深將有600m深。

氧化膜的絕大部分優(yōu)良特性,如抗蝕、耐磨、吸附、絕緣等性能都是由多孔外層的厚度及孔隙率所決定的,然而這兩者卻與陽(yáng)極氧化條件密切相關(guān), 因此可通過(guò)改變陽(yáng)極化條件來(lái)獲得滿足不同使用要求的膜層。膜厚是陽(yáng)極氧化制品一個(gè)很主要的性能指針, 其值的大小直接影響著膜層耐蝕、耐磨、絕緣及化學(xué)著色能力。在常規(guī)的陽(yáng)極氧化過(guò)程中, 膜層隨著時(shí)間的增加而增厚。在逹到最大厚度之后, 則隨著處理時(shí)間的延長(zhǎng)而逐漸變薄, 有些合金如AI-Mg、AI-Mg-Zn合金表現(xiàn)得特別明顯。因此, 氧化的時(shí)間一般控制在逹最大膜厚時(shí)間之內(nèi)。

陽(yáng)極鋁氧化的性質(zhì)與應(yīng)用 陽(yáng)極氧化膜具有較高的硬度和耐磨性、極強(qiáng)的附著能力、較強(qiáng)的吸附能力、良好的抗蝕性和電絕緣性及高的熱絕緣性。由于這些特異的性能, 使之在各方面都獲得了廣泛的應(yīng)用。

陽(yáng)極鋁氧化主要用途有：

（1）提高零件的耐磨、耐蝕性、耐氣候腐蝕。

（2）氧化生成的透明膜，可以著色制成各種彩色膜。

（3）作為電容器介質(zhì)膜。

（4）提高與有機(jī)涂層的結(jié)合力。作涂裝底層。

（5）作電鍍、搪瓷的底層。

（6）正在開發(fā)的其它用途，太陽(yáng)能吸收板、超高硬質(zhì)膜、干潤(rùn)滑膜、觸媒膜、納米線、在多孔膜中沉積磁性合金作記憶元件。